CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空气相镀膜
真空气相沉积材料

      CVD真空气相沉积工艺所使用的是一种保护性长链性高分子材料(中文名:派瑞林、聚对二甲苯、英文名:Parylene),它可在真空下气相沉积,活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部,周围形成无针孔,并厚度均匀的透明绝缘涂层,给元件提供了一个完整的优质防护涂层,抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害,因为所使用的不是液体,所以涂敷过程中不会聚集,桥接式形成弯月面。

      Parylene派瑞林高分子材料根据分子结构可分为: N、C、 D、F、HT等多种 类型。我们可根据客户技术要求与产品提供CVD真空气相沉积工艺所需的Parylene派瑞林粉体与原料,并给于专业的技术指导。

派瑞林牌号

成膜特性

CAT

N粉

CAT

C粉

CAT

D粉

CAT

F(VT4)粉

CAT

AF4(HT)粉

密度(gm/cc)

1.1

1.3

1.41

1.55

1.5

介电常数(1Mhz)

2.6

2.9

2.8

2.3

2.2

介电强度(V/Mil)

7000

5600

5500

5000

7000

最低持续工作温度(空气中)

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

最高持续工作温度(空气中)

60°C

80°C

110°C

200°C

300°C

摩擦系数-动态

0.25

0.29

0.38

0.39

0.16

线性膨胀系数(ppm at 25°C)

69

35

38

45

34

吸水性(24H后)

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

水蒸气透过率(gm.mm)/m2.day)

0.6

0.08-0.1

0.1

0.25-0.32

0.2

氧气穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

16

3

12.0-13.5

16.8

25.3