真空化学气相沉积工艺(Chemical Vapor Deposition,英文简称CVD), 俗称：真空气相镀膜，纳米镀膜或派瑞林镀膜。是一种把含有构成薄膜元素的长链性高分子材料（派瑞林Parylene等）、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室，借助空间气相化学反应并在产品表面上沉积生成的0.1-100um薄膜涂层的工艺技术。薄膜涂层厚度均匀，致密无针孔、透明无应力、不含助剂、不损伤产品、有优异的电绝缘性和防护性，是当代最有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。   

CVD化学气相沉积流程

随着时代的发展，电子产品技术的不断革新。高新技术与智能化的发展，精密的电子设备元件需要适应各种恶劣的工作环境，达到工业对其更高的要求：高可靠，小型化，抗干扰等等。因此，电子零部件的环境适应性和防护力就成了重中之重。

LPMS为适应现有市场需求, 通过开发创新，成功的将派瑞林镀膜技术运用到电子产品行业。我们在材料、工艺和设备方面的专有技术使我们能够为客户带来高质量的超薄与纳米级保形涂层，其成就在行业得到认可。