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CVD真空氣相沉積技術工藝原理膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構成薄膜元素的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣...2024-04-19 10:43:57
CVD真空氣相沉積工藝應用 CVD（派瑞林Parylene真空鍍膜）廣泛用於航空航天、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物等領域。派瑞林真空鍍膜後的電子產品...2024-04-19 10:43:57
側式真空氣相鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物（長鏈性高分子材料，一般為派瑞林Parylene）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相...2018-08-31 11:50:13
紧凑型側式真空氣相沉積設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物（長鏈性高分子材料，一般為派瑞林Parylene）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相...2019-06-01 15:00:13

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